台积电也表示,计划在明年进行5纳米的制程试产,如果能达到量产的效果,需要等到2020年。作为半导体设备的一个高端制造设备,国内的技术能够达到世界前沿,能够打破国际的垄断,帮助我国的半导体产业得到进一步的发展空间。
刻蚀机作为光刻机的重要合作伙伴,彼此之间需要相互协作才能最终完成电路在硅片上的刻录。光刻机需要在涂满光刻胶的硅片上面盖上准备好的光刻板,把需要保留的线路给规定好,即后期那些集成电力所处的位置,那么就会存在空余的地方,而刻蚀机的作用就是把除了线路占据之外的地方给消灭掉,剩下的就是集成电路图了。
国内目前在光刻机方面的技术水平和西方的技术水平太大,很多半导体企业不具备生产制造光刻机的技术能力,或者没有太多的资金购买国外的光刻机,所以只能在芯片的设计和后期的封装测试中赚钱,中间的刻录没有一点的空间,很多利润被赚掉。如果把一个芯片放大,你会发现,其线路的复杂程度超越了北京的交通图,刻蚀机就是把除了交通图以外的东西给清理掉,而且是缩小到一粒米这样的空间来进行,难度可想而知。
从目前国内的芯片生产企业来看,没有正统的刻蚀机生产公司,毕竟没有关键的技术,中微半导体公司如今具备了完全自主的知识产权,已经跻身刻蚀机的国际第一梯队行列,将会比7纳米的刻蚀机占据更大的市场份额。因为没有正统的芯片制造公司具备刻蚀机的能力,我们转而关注哪些参股了刻蚀机生产的上市公司,其中包括可立克和四川双马两家企业。有望在占据技术优势的基础上获得更大的盈利空间。
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