众所周知,这一两年中国芯的发展受到了空前的关注,于是制造芯片的中国企业,以及国产的半导体设备也是受到空前的关注,因为制约我们芯片发展的不仅是技术,还有各种各样的半导体设备。
而在这些半导体设备之上,光刻机可能是最受关注的设备了,因为目前中国离国际领先水平差得实在太远了,像最强的ASML光刻机可用于5nm的芯片制造了,而中国产的还在90nm水平,差了至少是10年以上。
当然,在芯片制造过程中,还有一种设备被人经常和光刻机搞混,那就是刻蚀机。很多人都把这两种机器混为一谈,其实并不是的,两种设备的作用似乎有点相反,光刻机用来在硅晶圆上刻画电路图,而刻蚀机则是把没刻画电路图的晶圆去掉。
这两种设备在芯片制造中,都很重要,只是因为国产的刻蚀机水平完全是世界领先的,早已摆脱了对国外厂商的依赖,所以大家提得相以较少而已。
近日,中微半导体CEO尹志尧博士表示,目前中微生产的5nm刻蚀机(用于5nm工艺的等离子蚀刻机)已经通过了台积电的验证,明年将正式用于台积电5nm芯片的生产之中了。
而这样的刻蚀机也不便宜,一台几百万美元,按网上的说法,这样的一台5nm的刻蚀机,一台要卖3000多万。
而明年5nm芯片将会是谁,台积电最大的客户是苹果,5nm的芯片将会是A14,其次是华为,5nm芯片将会是麒麟1020(暂命名),可能还会有高通、AMD等客户。
对于这样一家企业,这样的国产刻蚀机,不知道大家是什么样的感想,我想说的是希望这样的企业在中国越多越好,只有这种掌握核心科技的企业多了,中国的芯片才能全面崛起。
接下来就看国产光刻机的了,一旦刻蚀机有了,光刻机有了,那整个半导体设备领域,对国外的依赖性就不那么强了,你觉得呢?
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